Scios 2 DualBeam rendszer
A Scios ™ 2 DualBeam ™ egy rendkívül nagy felbontású analitikai FIB-SEM rendszer, mely kiemelkedő mintavételi előkészítést és 3D-s karakterisztikai teljesítményt nyújt a minták legszélesebb köre számára, ideértve a mágneses és nem vezető anyagokat is. Az átviteli sebesség, a pontosság és a könnyű használat fokozására tervezett, innovatív Scios 2 DualBeam ideális megoldás a tudósok és mérnökök igényeinek kielégítésére akadémiai-, kormányzati- és ipari kutatási környezetben egyaránt.
Additional information
Gyártó | |
---|---|
Felhasználás | Akkumulátor alkatrészek vizsgálata, Anyagszerkezet-vizsgálat, Autóalkatrész-gyártás, Gyógyszeripar, Ipari minőség-ellenőrzés |
Description
A Scios 2 DualBeam a következőket nyújtja:
- Jó minőségű, helyspecifikus, TEM és Atom szonda minták gyors és egyszerű elkészítése a Sidewinder HT ion oszlop segítségével.
- Rendkívül nagy felbontású képalkotás NICol elektronoszlop segítségével, az osztály legjobb teljesítményével a mintavétel legszélesebb tartományában. Ideértve a mágneses és nem vezető anyagokat is.
- A legteljesebb mintavételi információ éles, kifinomult és töltésmentes kontraszttal, különféle beépített oszlopközi- és lencse alatti érzékelőkkel.
- Hozzáférés a kiváló minőségű, multimodális felszíni és 3D információkhoz, az opcionális Auto Slice & View ™ 4 (AS & V4) szoftver segítségével.
- Egyedi alkalmazási igényekhez igazított precíz minta navigáció a 110 mm-es mintaasztal és a kamrában lévő Nav-Cam rendszer nagy rugalmasságának köszönhetően.
- Artifaktumok nélküli képalkotás és mintázat készítés olyan dedikált módokkal, mint a SmartScan ™, DCFI és a Drift Suppression.
- A rugalmas DualBeam konfigurációnak köszönhetően optimalizálja a rendszert a meghatározott alkalmazási követelményeknek megfelelően.
A jó minőségű TEM minták gyors és egyszerű elkészítése:
- A Scios 2 DualBeam legújabb technológiai újításai, a legegyszerűbben használható, legátfogóbb AutoTEM ™ 4 szoftverrel (opcionális) és a Thermo Fisher Scientific alkalmazástechnikai tapasztalataival kombinálva lehetővé teszik a helyspecifikus HR-S / TEM alkalmazását az anyagok széles spektrumához.
- A kiváló minőségű eredmények elérése érdekében végső polírozás szükséges alacsony energiaszintű ionokkal, hogy a minta felületi károsodása minimálisra csökkenjen.
- A Sidewinder HT fókuszált ioncsalád (FIB) oszlop nem csak nagyfelbontású képalkotást és marást biztosít nagy feszültségszinten, hanem megfelelő megoldást kínál alacsony feszültségű alkalmazásokban, lehetővé téve a jó minőségű TEM lamellák létrehozását.